磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术,目前已经在科研和生产中实际应用。磁控溅射镀膜,具有高速、低温、低损伤等优点。高速是指沉积速率快,低温和低损伤是指基片的温升低、损伤小。
磁控溅射靶有三种形式,平面靶,同轴圆柱罢和S枪溅射靶。
磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子的运动方向,束缚和延长电子的运动路径,提高电子的电离几率和有效地利用了电子的能量。
(3) 电弧离子镀膜
原理是基于冷阴极真空弧光放电理论提出的。该理论认为放电过程的电量迁移是借助于场电子发射和正离子电流这两种机制同时存在且相互制约而实现的。
1.4.真空冶金炉
(1) 真空电阻炉
真空电阻炉主要用于钛、钽、锆等活泼、难熔金属或某些磁性、电工合金的光亮退火和真空除气,也用于某些材料的真空焊接、钎焊合格扩散焊。
(2)真空电子束炉
又称电子轰击炉,其熔炼有三种方式:滴熔、池熔和凝壳熔炼。其凝壳熔炼,没有坩埚污染,可注成各种异型件,适用于高纯金属和活泼金属熔炼。
(3) 真空电弧炉
真空电弧熔炼是在低于一个大气压力下用电弧加热熔炼金属或是合金。适用于熔炼合金钢、活性金属钛锆和难熔金属钨、钼、钽等。与普通的电弧炉相比,在熔炼中避开了大气污染,也没有耐火材料炉衬的不良作用,相反低压促进了去除有害气体和杂质,大大改善了金属和合金的性能。
(4)真空感应炉
真空感应炉是利用电磁感应的方法,将密封于真空室中的坩埚加热,在真空状态下进行金属与合金的冶炼生产。
真空中感应加热作为一种新的热源,用途广泛,如钎焊、烧结、透热及真空冶炼,真空脱气 ,真空退火,真空蒸镀等。作为真空感应熔炼方法,其优点很多,如冶炼材料的成分准确,分布均匀,合金收得效率高,加热速度快,效率高,生产劳动强度好等。
|